L’eau Ultra-pure/DI-Hangzhou Anow Microfiltration Co.,Ltd.

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L’eau Ultra-pure/DI

2015-03-10

L’eau ultra pure / DI est utilisé en grandes quantités dans la fabrication de semiconducteurs. Les exigences relatives à l'eau DI ont de plus en plus strictes ces années.
Objectif de Séparation
Fiable rétention de particules et colloïdes
Exigences d’Application
● Filtres doivent avoir de faibles extractibles.
● Filtres doivent être rincés par l'eau pure, de garder TOC sous le niveau acceptable.
● Filtres terminaux doivent garder la rétention fiable de particules pendant une longue période.
● Filtres doivent fournir des débits élevés cohérentes et être robuste pour satisfaire les procédés de fabrication de masse.
Recommendation

Produit	Description
LEC	Fiber de charbon actif, pour RO prétraitement
LEP/LEPF	Supérieur capacité de rétention, une large compatibilité chimique, débits élevés
LES	Longue durée de vie et débits élevés, rétention absolue et l'intégrité testables
LENN	faible taux d'extractibles et haut débit,économique
LETA	Large compatibilité chimique, l’intégrité testable,la rétention absolue pour le gaz et l'air

Application

Produit	Processus
Média de disque dur	Le nettoyage par ultrasons, pulvérisation et la fente QDR
Tête du disque dur	L'approvisionnement en eau et de la circulation, nettoyage ultra-pur chef Assemblée cardan
Média CD / DVD	Base de rincer les matériaux, nettoyage de disque, l'approvisionnement en eau déminéralisée
LCD - FPD - OLED	Station de lavage de pulvérisation, douche d'eau déminéralisée, nettoyage final
Photovoltaïque / cellule solaire	nettoyage de la plaquette de Silicon, nettoyage de la batterie

Typical Ultrapure Water System

Ultrapure Water.png

Last Case: Filtration de Polissage CMP

Next Case: No information!

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