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L’eau Ultra-pure/DI

2015-03-10

L’eau ultra pure / DI est utilisé en grandes quantités dans la fabrication de semiconducteurs. Les exigences relatives à l'eau DI ont de plus en plus strictes ces années.
Objectif de Séparation
Fiable rétention de particules et colloïdes
Exigences d’Application
● Filtres doivent avoir de faibles extractibles.
● Filtres doivent être rincés par l'eau pure, de garder TOC sous le niveau acceptable.
● Filtres terminaux doivent garder la rétention fiable de particules pendant une longue période.
● Filtres doivent fournir des débits élevés cohérentes et être robuste pour satisfaire les procédés de fabrication de masse.
Recommendation

Produit

Description

LEC

Fiber de charbon actif, pour RO prétraitement

LEP/LEPF

Supérieur capacité de rétention, une large compatibilité chimique, débits élevés

LES

Longue durée de vie et débits élevés, rétention absolue et l'intégrité testables

LENN

faible taux d'extractibles et haut débit,économique

LETA

Large compatibilité chimique, l’intégrité testable,la rétention absolue pour le gaz et l'air

Application

Produit

Processus

Média de disque dur

Le nettoyage par ultrasons, pulvérisation et la fente QDR

Tête du disque dur

L'approvisionnement en eau et de la circulation, nettoyage ultra-pur chef Assemblée cardan

Média CD / DVD

Base de rincer les matériaux, nettoyage de disque, l'approvisionnement en eau déminéralisée

LCD - FPD - OLED

Station de lavage de pulvérisation, douche d'eau déminéralisée, nettoyage final

Photovoltaïque / cellule solaire

nettoyage de la plaquette de Silicon, nettoyage de la batterie

Typical Ultrapure Water System

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